Pulsed magnetron sputter technology

At present, a new development trend is becoming evident in which the introduction of a pulsed mode for magnetron sputtering seems to be very promising with respect to process stability and layer quality. For instance, the deposition of TiN requires a plasma density that cannot be attained in normal ... Ausführliche Beschreibung

1. Person: Schiller, S.
Weitere Personen: Goedicke, K.; Reschke, J.; Kirchhoff, V.; Schneider, S.; Milde, F.
Quelle: in Surface & Coatings Technology Vol. 61, No. 1-3 (1993), p. 331-337
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Format: Online-Artikel
Sprache: English
Veröffentlicht: 1993
Beschreibung: Online-Ressource
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