INFLUENCE OF THE SELF-BIAS VOLTAGE ON THE MICROSTRUCTURE OF HYDROGENATED AMORPHOUS CARBON FILMS ELABORATED BY RF-PECVD

Hydrogenated amorphous carbon films (a-C:H) were deposited at room temperature in an rf-PECVD reactor using different DC self-biases (150 – 240 V). The microstructure of the films was then analysed by infrared transmission spectroscopy and Raman spectroscopy. The IR results show that hydrogen is b... Ausführliche Beschreibung

1. Person: N HADJ-ZOUBIR verfasserin
Weitere Personen: F BOUKHORS verfasserin; R BAGHDAD verfasserin; K ZELLAMA verfasserin
Quelle: In Sciences & Technologie (01.12.2008)
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Format: Online-Artikel
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Veröffentlicht: 2008
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